В России создадут первую 8‑модульную кластерную установку для магнетронного нанесения слоев алюминиевой металлизации
Оборудование позволит выпускать интегральные микросхемы по топологическим нормам 180÷90 нм на пластинах диаметром 200 мм.
Проект реализуется в рамках комплексной программы «Развитие электронного машиностроения до 2030 года» при поддержке Минпромторга России, а его завершение запланировано на конец сентября 2030 года.
Ключевое преимущество нового оборудования — продуманная конфигурация транспортной системы: два распределительных модуля, разделенные буферной камерой, обеспечивают высокий уровень вакуума, что лучшим образом сказывается на чистоте и качестве получаемых пленок. Данное решение позволит разместить до восьми технологических модулей и два шлюза загрузки‑выгрузки пластин. В состав кластерного комплекса будут также входить два робота-манипулятора, которые обеспечат высокую производительность процессов. Благодаря модульному принципу возможно изменение конфигурации или модернизация оборудования для выполнения новых производственных задач. При этом за счет дублирования части модулей установка продолжит работать даже во время техобслуживания. Это заметно повышает ее надежность и общую эффективность.
В ходе работы специалисты НИИТМ займутся разработкой конструкторской документации, созданием макетов ключевых узлов, изготовлением опытного образца установки и проведением предварительных испытаний. Ученые и инженеры из НИИМЭ сформулируют технические требования к оборудованию, подготовят программы испытаний и выполнят полный цикл технологических тестов кластера.
«Создание отечественной кластерной установки для магнетронного нанесения слоев алюминиевой металлизации, отвечающей текущим стандартам индустрии, станет важной составляющей развития микроэлектроники в России. Разработка кластерного оборудования с восемью технологическими модулями — это новый вызов, который требует решения ряда комплексных научно-технических задач. Тем не менее, в НИИТМ уже сформирована команда высококвалифицированных специалистов и наработаны профессиональные компетенции по созданию кластерного оборудования, которые позволяют нам внести свой вклад в разработку перспективного и важного для отрасли оборудования», — отметил генеральный директор НИИТМ Михаил Бирюков.
«Мы продолжаем крайне важную работу по созданию отечественного электронного оборудования. В прошлом году мы завершили разработку и сборку первых в России кластерных систем для процессов плазмохимического осаждения (ПХО) и травления (ПХТ), заложив основу для развития отечественной производственной линейки. Теперь мы приступаем к разработке новой установки, которая будет работать с пластинами диаметра 200 мм, и, уверен, будет востребована предприятиями и в России, и за рубежом», — подчеркнул генеральный директор НИИМЭ Александр Кравцов.
