imec получила редчайшую EUV-установку ASML для разработки чипов нового поколения

Бельгийский центр микроэлектроники imec сообщил о получении новейшей литографической установки High-NA EUV от компании ASML стоимостью около 400 млн долларов. Таких машин в мире насчитывается менее десятка, и они считаются ключевыми для будущего производства передовых микросхем.

Этот инструмент станет центральным элементом пилотной линии NanoIC стоимостью около 2,5 млрд евро. Проект частично финансируется за счёт государственных средств, включая поддержку в рамках европейского «Chips Act».

Технология High-NA EUV позволяет создавать значительно более мелкие элементы на чипах — примерно на 66% меньше по сравнению с текущими решениями. Это открывает путь к более быстрым и энергоэффективным процессорам, особенно востребованным в задачах искусственного интеллекта и высокоскоростной памяти.

Ожидается, что такие системы начнут активно использоваться в индустрии уже к 2027 году. Крупные производители, включая Intel и SK Hynix, уже готовятся внедрять эту технологию в своих будущих продуктах.

imec работает по модели совместных разработок, предоставляя компаниям и исследователям доступ к передовому оборудованию. Благодаря сотрудничеству с ASML и другими поставщиками отрасли центр стал ключевой площадкой для тестирования и интеграции новых технологий производства чипов.

Получение такой установки усиливает позиции Европы в глобальной цепочке поставок полупроводников и поддерживает её стремление к технологической независимости в стратегически важной отрасли.