ASML заявила, что первые чипы, произведённые на новых установках High-NA, появятся в ближайшие месяцы
Речь идёт о следующем этапе развития экстремальной ультрафиолетовой литографии (EUV), которая используется для производства самых передовых чипов. Новые установки High-NA позволяют создавать более мелкие и точные структуры, что снижает стоимость и усложнённость производства микросхем для логики и памяти.
По словам главы ASML, в ближайшее время первые тестовые и ранние производственные образцы начнут появляться у клиентов компании — как в сегменте памяти, так и в логических чипах. Это станет важным шагом в переходе технологии из стадии внедрения к более широкому промышленному использованию.
При этом новые машины остаются крайне дорогими — их стоимость может достигать около 400 миллионов долларов за установку. Несмотря на это, ASML продолжает продвигать технологию, считая её ключевой для следующего поколения вычислительных систем, включая решения для искусственного интеллекта.
Отдельно отмечается, что не все крупные заказчики готовы к массовому внедрению High-NA: часть производителей считает технологию слишком дорогой для текущих производственных процессов. Тем не менее другие компании уже тестируют оборудование и готовятся к его интеграции.
В целом ASML рассматривает High-NA как важный этап развития индустрии, который должен обеспечить дальнейшее уменьшение размеров транзисторов и рост производительности чипов в эпоху ИИ.